Dịch
Extreme Ultraviolet Lithography, 1st Edition
BRAND: McGraw Hill
| Publisher: | McGraw Hill / Engineering |
| Author: | Banqiu WuAjay Kumar |
| Edition: | Copyright: 2009 |
| eBook ISBN: | |
| Print ISBN: | 9780071549189 |
| Type: | 1 Year Subscription. Dành cho Cá nhân |
Sách Digital bán theo Subscription
Đây là eBook edition, 1 year subscription, thuộc bộ McGraw Hill Access Engineering chỉ bán theo trường và nhóm. Gọi 0915920514 để nhận Báo giá và Đặt hàng cho Trường ĐH, Thư Viện, Bệnh Viện
See what in the box
Mô tả sản phẩm
Giải thích sự đổi mới hứa hẹn nhất trong kỹ thuật in thạch bản ngày nay. Tài nguyên mang tính bước ngoặt này cung cấp hướng dẫn đầy đủ đầu tiên về quang khắc cực tím (EUVL), bao gồm lý thuyết khoa học mới nhất, phương pháp xử lý, ứng dụng và hướng đi trong tương lai. Được biên tập bởi hai chuyên gia EUVL nổi tiếng, tài liệu tham khảo này có sự đóng góp của các kỹ sư nổi tiếng tại các nhà sản xuất chất bán dẫn hàng đầu như Intel và ASM Lithography. Được thiết kế để giúp bạn tối ưu hóa EUVL, Extreme Ultraviolet Lithography bao gồm các công cụ in thạch bản EUV, máy in EUV, nguồn EUV, EUV nhiều lớp , Voptics của EU, kiểm soát lỗi, kháng cự, kỹ thuật mặt nạ, v.v.
TỔNG QUAN SÁCH
Giải thích sự đổi mới hứa hẹn nhất trong kỹ thuật in thạch bản ngày nay. Tài nguyên mang tính bước ngoặt này cung cấp hướng dẫn đầy đủ đầu tiên về quang khắc cực tím (EUVL), bao gồm lý thuyết khoa học mới nhất, phương pháp xử lý, ứng dụng và hướng đi trong tương lai. Được biên tập bởi hai chuyên gia EUVL nổi tiếng, tài liệu tham khảo này có sự đóng góp của các kỹ sư nổi tiếng tại các nhà sản xuất chất bán dẫn hàng đầu như Intel và ASM Lithography. Được thiết kế để giúp bạn tối ưu hóa EUVL, Extreme Ultraviolet Lithography bao gồm các công cụ in thạch bản EUV, máy in EUV, nguồn EUV, EUV nhiều lớp , Voptics của EU, kiểm soát lỗi, kháng cự, kỹ thuật mặt nạ, v.v.
Giải thích sự đổi mới hứa hẹn nhất trong kỹ thuật in thạch bản ngày nay. Tài nguyên mang tính bước ngoặt này cung cấp hướng dẫn đầy đủ đầu tiên về quang khắc cực tím (EUVL), bao gồm lý thuyết khoa học mới nhất, phương pháp xử lý, ứng dụng và hướng đi trong tương lai. Được biên tập bởi hai chuyên gia EUVL nổi tiếng, tài liệu tham khảo này có sự đóng góp của các kỹ sư nổi tiếng tại các nhà sản xuất chất bán dẫn hàng đầu như Intel và ASM Lithography. Được thiết kế để giúp bạn tối ưu hóa EUVL, Extreme Ultraviolet Lithography bao gồm các công cụ in thạch bản EUV, máy in EUV, nguồn EUV, EUV nhiều lớp , Voptics của EU, kiểm soát lỗi, kháng cự, kỹ thuật mặt nạ, v.v.
